Reuters: Китаю удалось построить прототип передовой установки по производству микрочипов

Китайским ученым удалось создать прототип EUV-литографа, способного производить полупроводниковые чипы, необходимые для дальнейшего развития искусственного интеллекта, смартфонов и оружия. Работы проводились в лаборатории в Шеньчжэне. Агентство Reuters пишет, что это событие ознаменует именно то, чему долгое время пытался помешать Вашингтон, — приближение Пекина к полному самообеспечению в полупроводниковой сфере.

Работы по созданию прототипа завершили в начале 2025-го, сейчас он проходит испытания и пока что не способен производить чипы. Источники агентства утверждают, что над проектом работали экс-инженеры нидерландской ASML — единственного в мире поставщика оборудования для чипов, которому с 2018 года запрещено поставлять «железо» в Китай. Утверждается, что техпроцесс китайского аналога EUV-литографа в тысячи раз тоньше человеческого волоса — такую же технологию используют на Западе. В настоящий момент самые передовые чипы создаются тайваньской TSMC и имеют техпроцесс в 2 нм. В 2026-м она планирует запустить еще более миниатюрный вариант в 1,6 нм.

Экс-гендиректор ASML Кристоф Фуке заявил, что Пекину понадобится «много-много лет» для разработки технологий, схожих с технологией его компании. Однако сам факт существования прототипа EUV-литографа в китайской лаборатории говорит о том, что, возможно, КНР ближе к прорыву в разработках, чем думают многие.

Источники Reuters говорят, что создать прототип машины Китаю позволило наличие старых комплектующих ASML на вторичном рынке, а так же бывших инженеров компании из Нидерландов китайского происхождения, которых удалось завербовать. В планы правительства, по их словам, входит создание микросхем на полностью made in China оборудовании уже в 2028 году. Однако собеседники, близкие к проекту, считают более реалистичным сроком 2030-й.